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蚀刻机产业的全新时代
起初蚀刻机产业也是由生产效率低，资金缺失，造成企业发展缓慢止步不前。但是国人是坚强的，不甘落后。努力学习生产技术，借鉴国外精英厂商的先进生产技术，也一步一步进行着设备升级，研发新科技产品。蚀刻机在我国存在也有几十个年头了，期间有不少的厂家兴Release time：2019-09-03 Number of clicks：59 -
论半导体设备（一）---国内半导体设备来源及状况
美国对华技术出口管制以及成立"瓦森纳安排"，对中国的发展具有深层次的影响，即大大阻碍了中国加入全球生产体系。由于《瓦森纳协定》的影响，中国采购新半导体设备的难度颇高，目前国内部份半导体设备干法去胶机的采购均来自二手设备市Release time：2019-09-03 Number of clicks：65 -
等离子刻蚀工艺--装片
等离子体系统效应的过程转换成材料的蚀刻工艺。在待刻蚀硅片的两边，分别放置一片与硅片同样大小的玻璃夹板，叠放整齐，用夹具夹紧，确保待刻蚀的硅片中间没有大的缝隙。冷热探针法冷热探针法将夹具平稳放入反应室的支架上，关好反应室的盖子。等离子刻蚀检验Release time：2019-08-27 Number of clicks：53 -
溅射过程中涉及到复杂的散射过程和多种能量传递过程
直流溅射法要求靶材能够将从离子轰击过程中得到的正电荷传递给与其紧密接触的阴极，从而该方法只能溅射导体材料，不适于绝缘材料，因为轰击绝缘靶材时表面的离子电荷无法中和，这将导致靶面电位升高，外加电压几乎都加在靶上，两极间的离子加速与电离的机会将Release time：2019-08-27 Number of clicks：57 -
等离子刻蚀机在PCB线路板行业去胶渣制程的应用
等离子刻蚀机在PCB线路板行业去胶渣制程的应用等离子体又叫做电浆，是由有些电子被掠夺后的原子及原子被电离后发生的正负电子构成的离子化气体状物质，也有称其为物质的第四相态。等离子体相态是因为原子中激化的电子和分子无序运动的状况，所Release time：2019-08-22 Number of clicks：43 -
如何提高利用率是真空磁控溅射镀膜行业的重点
磁控溅射靶材的利用率可成为磁控溅射源的工程设计和生产工艺成本核算的一个参数。截止2012年，还没有见到对磁控溅射靶材利用率专门或系统研究的报道，而从理论上对磁控溅射靶材利用率近似计算的探讨具有实际意义。对于静态直冷矩形平面靶，即靶材与磁体之Release time：2019-08-22 Number of clicks：67 -
什么公司会用到等离子刻蚀机？
从某种程度来讲，等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室。气体被导入并与等离子体进行交换。等离子体在工件表面发生反应，反应的挥发性副产物被真空泵抽走。等Release time：2019-07-26 Number of clicks：59 -
赛森电子带您了解高真空磁控溅射台
赛森电子带您了解高真空磁控溅射台1．设备基本构造形式：该设备系是涡轮分子泵＋机械泵抽气的单室高真空全不锈钢系统。主真空室下底盘上安装ф50三支磁控靶。真空室上盖上安装样品转盘，样品转盘由水冷和加热炉两套组成，二者不能同时兼用，只能交替使用Release time：2019-07-26 Number of clicks：56 -
半导体设备硅刻蚀机概述
在众多半导体工艺中，刻蚀是决定特征尺寸的核心工艺技术之一。刻蚀分为湿法刻蚀和干法刻蚀。湿法刻蚀采用化学腐蚀进行，是传统的刻蚀工艺。它具有各向同性的缺点，即在刻蚀过程中不但有所需要的纵向刻蚀，也有不需要的横向刻蚀，因而精度差，线宽一般在3umRelease time：2019-07-09 Number of clicks：95 -
磁控溅射台设备用途和功能特点
磁控溅射台设备用途和功能特点 1、该设备是一种多功能磁控溅射镀膜设备，适用于镀制各种单层膜、多层膜及搀杂膜系。可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜(需配射频电源)、介质复合膜和其它化学反应膜。 2、为避免微粒物Release time：2019-07-09 Number of clicks：257 -
赛森电子科技告诉你磁控溅射的种类
磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。磁控溅射台所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。靶源分平衡和非平衡式，平衡Release time：2019-06-24 Number of clicks：60 -
等离子技术在汽车工业的使用
随着经济的发展，消费者对汽车的性能要求越来越高，如汽车的外观、操作舒适性可靠性、使用耐久性等要求也不断提高。为了满足消费者的要求，各汽车厂家在生产汽车时更注重细节方面的优化改进，如进行（Release time：2019-06-24 Number of clicks：42 -
你知道等离子去胶机的原理？
等离子去胶法，去胶气体为氧气。其工作原理是将硅片置于真空反应系统中，通入少量氧气，加1500V高压，由高频信号发生器产生高频信号，使石英管内形成强的电磁场，使氧气电离，形成氧离子、活化的氧原子、氧分子和电子等混合物的等离子体的辉光柱。活化Release time：2019-06-12 Number of clicks：47 -
湿法刻蚀相对于等离子刻蚀的缺点
等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了Release time：2019-06-12 Number of clicks：61 -
Etching process of etching mesh by etching machine
Etchingnetisalsocalledfilternet.Itismadeofmetalsheetbyetchingmachine.FoshanXinhengliHardwareMachineryRelease time：2018-03-03 Number of clicks：64 -
What are the typical applications of plasma etchers?
Theplasmatreatmentcanbeappliedtoallsubstrates,andevencomplexgeometriescanbeusedforplasmaactivationandRelease time：2018-02-01 Number of clicks：77 -
What is intermediate frequency magnetron sputtering?
InIFreactivesputtering,thetargetsurfaceissputteredbypositiveionswhenthevoltageappliedonthetargetisinRelease time：2018-02-01 Number of clicks：71 -
Measurement and control of plasma etching in plasma etcher
Becausetheprocessvariablesinplasmaetcherprocess,suchasetchingrate,pressure,temperature,plasmaimpedance,eRelease time：2018-02-01 Number of clicks：64 -
How to improve the sputtering efficiency of magnetron sputtering station?
Thesputteringmethodofthemagnetronsputteringstationisgenerallynotefficient.InordertoincreasethesputterinRelease time：2018-01-04 Number of clicks：64 -
What are the main applications of plasma degumming machine?
Drydegummingmachinetechnologyisaveryimportantprocessinmicro-processingexperiments.AfterelectronbeamlithogRelease time：2018-01-04 Number of clicks：55