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Label:磁控溅射台

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  • [Technical knowledge] What is intermediate frequency magnetron sputtering?

    InIFreactivesputtering,thetargetsurfaceissputteredbypositiveionswhenthevoltageappliedonthetargetisin
    Release time:2018-02-01   Number of clicks:70

  • [Technical knowledge] 全自动磁控溅射系统技术分类

    全自动磁控溅射系统是物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition,PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,而上世纪70年
    Release time:2019-10-15   Number of clicks:44

  • [Technical knowledge] What is a fully automatic magnetron sputtering station?

    Whatisafullyautomaticmagnetronsputteringstation?Magnetronsputteringisforhigh-speedsputteringatlowatmosphe
    Release time:2018-01-04   Number of clicks:60

  • [Company news] How to improve the sputtering efficiency of magnetron sputtering station?

    Thesputteringmethodofthemagnetronsputteringstationisgenerallynotefficient.Inordertoincreasethesputterin
    Release time:2018-01-04   Number of clicks:64

  • [Technical knowledge] 溅射过程中涉及到复杂的散射过程和多种能量传递过程

    直流溅射法要求靶材能够将从离子轰击过程中得到的正电荷传递给与其紧密接触的阴极,从而该方法只能溅射导体材料,不适于绝缘材料,因为轰击绝缘靶材时表面的离子电荷无法中和,这将导致靶面电位升高,外加电压几乎都加在靶上,两极间的离子加速与电离的机会将
    Release time:2019-08-27   Number of clicks:57

  • [Technical knowledge] 如何提高利用率是真空磁控溅射镀膜行业的重点

    磁控溅射靶材的利用率可成为磁控溅射源的工程设计和生产工艺成本核算的一个参数。截止2012年,还没有见到对磁控溅射靶材利用率专门或系统研究的报道,而从理论上对磁控溅射靶材利用率近似计算的探讨具有实际意义。对于静态直冷矩形平面靶,即靶材与磁体之
    Release time:2019-08-22   Number of clicks:65

  • [Company news] 赛森电子带您了解高真空磁控溅射台

    赛森电子带您了解高真空磁控溅射台1.设备基本构造形式:该设备系是涡轮分子泵+机械泵抽气的单室高真空全不锈钢系统。主真空室下底盘上安装ф50三支磁控靶。真空室上盖上安装样品转盘,样品转盘由水冷和加热炉两套组成,二者不能同时兼用,只能交替使用
    Release time:2019-07-26   Number of clicks:56

  • [Technical knowledge] 磁控溅射台设备用途和功能特点

    磁控溅射台设备用途和功能特点 1、该设备是一种多功能磁控溅射镀膜设备,适用于镀制各种单层膜、多层膜及搀杂膜系。可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜(需配射频电源)、介质复合膜和其它化学反应膜。  2、为避免微粒物
    Release time:2019-07-09   Number of clicks:250

  • [Company news] 赛森电子科技告诉你磁控溅射的种类

    磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电场交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。磁控溅射台所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。靶源分平衡和非平衡式,平衡
    Release time:2019-06-24   Number of clicks:60

  • [Industry news] What is the working principle of magnetron sputtering?

    Theworkingprincipleofmagnetronsputteringisthatelectronscollidewithargonatomsduringtheflyingtothesubstr
    Release time:2018-01-02   Number of clicks:84