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Technical knowledge
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等离子表面处理设备是怎样使用的？
随着时代的不断发展，科技飞速进步，各类科技产物应用于我们的生活中，给我们的生产生活带来无限便利。等离子表面处理设备等离子刻蚀机在生产活动中使用广泛，对许多生产活动都有帮助，那么大家知道它是怎样使用的Release time：2019-11-26 Number of clicks：89 -
刻蚀是决定特征尺寸的核心工艺技术之一
在众多半导体工艺中，刻蚀是决定特征尺寸的核心工艺技术之一。刻蚀分为湿法刻蚀和干法刻蚀。湿法刻蚀采用化学腐蚀进行，是传统的刻蚀工艺。它具有各向同性的缺点，即在刻蚀过程中不但有所需要的纵向刻蚀，也有不需要的横向刻蚀，因而精度差，线宽一般在3umRelease time：2019-11-22 Number of clicks：177 -
感应耦合等离子体刻蚀机结构
感应耦合等离子刻蚀机（InductivelyCoupledPlasmaEtch，简称ICPE）是化学过程和物理过程共同作用的结果。它的基本原理是在真空低气压下，ICP射频电源产生的射频输出到环形耦合线圈，以一定比例的混合刻蚀气体经耦合Release time：2019-11-20 Number of clicks：159 -
微波等离子去胶机操作规程
微波等离子去胶机操作规程： 1、自动切割小车应经空车运转，并选定切割速度； 2、使用钍、钨电极应符合JGJ33-2001第12.7.8条规定； 3、高频发生器应设有屏蔽护罩，用高频引弧后，应立即切断高频电路； 4、应检查并确认电源、Release time：2019-11-20 Number of clicks：96 -
微波等离子干法去胶机操作及配合人员防护：
微波等离子干法去胶机操作及配合人员防护： 1、作业后，应切断电源，关闭气源和水源； 2、高空切割时，必须系好安全带，切接切割周围和下方应采取防火措施，并应有专人监护； 3、现场使用的等离子切割机机，应设有防雨、防潮、防晒的机棚，并Release time：2019-11-18 Number of clicks：80 -
等离子刻蚀机通常有几种形式？
等离子刻蚀机通常有三种形式：等离子体刻蚀、离子轰击和两种形式的结合反应离子刻蚀（ReactiveIonEtching），下表给出三种刻蚀的特点对照。离子轰击顾名思义是利用高能量惰性气体离子轰击硅片表面，达到溅射刻蚀的作用。因为采用这种方Release time：2019-10-18 Number of clicks：70 -
全自动磁控溅射系统技术分类
全自动磁控溅射系统是物理气相沉积（PhysicalVaporDeposition，PVD）的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，而上世纪70年Release time：2019-10-15 Number of clicks：46 -
反应离子刻蚀机检验操作及判断
反应离子刻蚀机是一款独立式RIE反应离子刻蚀系统，配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品。具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔，便于晶圆片装载.腔体有两个端口：一个带有2"Release time：2019-10-09 Number of clicks：37 -
等离子刻蚀机的应用
等离子体处理可应用于所有的基材，甚至复杂的几何构形都可以进行等离子体活化、等离子体清洗，等离子体镀膜也毫无问题。等离子体处理时的热负荷及机械负荷都很低，因此，低压等离子体也能处理敏感性材料。等离子刻蚀机的典型应用包括：等离子体清除浮渣光阻材Release time：2019-10-09 Number of clicks：46 -
如何操作微波等离子去胶机？
微波等离子去胶机操作规程： 1、自动切割小车应经空车运转，并选定切割速度； 2、使用钍、钨电极应符合JGJ33-2001第12.7.8条规定； 3、高频发生器应设有屏蔽护罩，用高频引弧后，应立即切断高频电路； 4、应检查并确认电源、Release time：2019-09-18 Number of clicks：83 -
溅射过程中涉及到复杂的散射过程和多种能量传递过程
直流溅射法要求靶材能够将从离子轰击过程中得到的正电荷传递给与其紧密接触的阴极，从而该方法只能溅射导体材料，不适于绝缘材料，因为轰击绝缘靶材时表面的离子电荷无法中和，这将导致靶面电位升高，外加电压几乎都加在靶上，两极间的离子加速与电离的机会将Release time：2019-08-27 Number of clicks：57 -
等离子刻蚀机在PCB线路板行业去胶渣制程的应用
等离子刻蚀机在PCB线路板行业去胶渣制程的应用等离子体又叫做电浆，是由有些电子被掠夺后的原子及原子被电离后发生的正负电子构成的离子化气体状物质，也有称其为物质的第四相态。等离子体相态是因为原子中激化的电子和分子无序运动的状况，所Release time：2019-08-22 Number of clicks：43 -
如何提高利用率是真空磁控溅射镀膜行业的重点
磁控溅射靶材的利用率可成为磁控溅射源的工程设计和生产工艺成本核算的一个参数。截止2012年，还没有见到对磁控溅射靶材利用率专门或系统研究的报道，而从理论上对磁控溅射靶材利用率近似计算的探讨具有实际意义。对于静态直冷矩形平面靶，即靶材与磁体之Release time：2019-08-22 Number of clicks：67 -
磁控溅射台设备用途和功能特点
磁控溅射台设备用途和功能特点 1、该设备是一种多功能磁控溅射镀膜设备，适用于镀制各种单层膜、多层膜及搀杂膜系。可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜(需配射频电源)、介质复合膜和其它化学反应膜。 2、为避免微粒物Release time：2019-07-09 Number of clicks：258 -
等离子技术在汽车工业的使用
随着经济的发展，消费者对汽车的性能要求越来越高，如汽车的外观、操作舒适性可靠性、使用耐久性等要求也不断提高。为了满足消费者的要求，各汽车厂家在生产汽车时更注重细节方面的优化改进，如进行（Release time：2019-06-24 Number of clicks：42 -
你知道等离子去胶机的原理？
等离子去胶法，去胶气体为氧气。其工作原理是将硅片置于真空反应系统中，通入少量氧气，加1500V高压，由高频信号发生器产生高频信号，使石英管内形成强的电磁场，使氧气电离，形成氧离子、活化的氧原子、氧分子和电子等混合物的等离子体的辉光柱。活化Release time：2019-06-12 Number of clicks：47 -
湿法刻蚀相对于等离子刻蚀的缺点
等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了Release time：2019-06-12 Number of clicks：61 -
Etching process of etching mesh by etching machine
Etchingnetisalsocalledfilternet.Itismadeofmetalsheetbyetchingmachine.FoshanXinhengliHardwareMachineryRelease time：2018-03-03 Number of clicks：64 -
What is intermediate frequency magnetron sputtering?
InIFreactivesputtering,thetargetsurfaceissputteredbypositiveionswhenthevoltageappliedonthetargetisinRelease time：2018-02-01 Number of clicks：71 -
Measurement and control of plasma etching in plasma etcher
Becausetheprocessvariablesinplasmaetcherprocess,suchasetchingrate,pressure,temperature,plasmaimpedance,eRelease time：2018-02-01 Number of clicks：65