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  • 中国等离子体刻蚀机达到世界先进水平

    日前,央视财经频道播出的《感受中国制造》第五集《中国“芯”力量》介绍了中国在半导体设备和半导体原材料上取得的成绩和进步。其中,最引人瞩目的莫过于中国企业在刻蚀机上取得的成绩——16nm刻蚀机实现商业化量产并在客户的生产线上运行,7-10nm
    Release time:2019-11-26   Number of clicks:43

  • 等离子表面处理设备是怎样使用的?

    随着时代的不断发展,科技飞速进步,各类科技产物应用于我们的生活中,给我们的生产生活带来无限便利。等离子表面处理设备等离子刻蚀机在生产活动中使用广泛,对许多生产活动都有帮助,那么大家知道它是怎样使用的
    Release time:2019-11-26   Number of clicks:39

  • 2018中国半导体材料及设备产业发展大会举行

    导语:2018中国半导体材料及设备产业发展大会日前在北京举行。大会由中国电子信息产业发展研究院主办、邳州市政府协办,旨在通过梳理半导体产业的发展方向、推介半导体材料及设备产业的创新理念,共同促进半导体
    Release time:2019-11-22   Number of clicks:47

  • 刻蚀是决定特征尺寸的核心工艺技术之一

    在众多半导体工艺中,刻蚀是决定特征尺寸的核心工艺技术之一。刻蚀分为湿法刻蚀和干法刻蚀。湿法刻蚀采用化学腐蚀进行,是传统的刻蚀工艺。它具有各向同性的缺点,即在刻蚀过程中不但有所需要的纵向刻蚀,也有不需要的横向刻蚀,因而精度差,线宽一般在3um
    Release time:2019-11-22   Number of clicks:60

  • 感应耦合等离子体刻蚀机结构

    感应耦合等离子刻蚀机(InductivelyCoupledPlasmaEtch,简称ICPE)是化学过程和物理过程共同作用的结果。它的基本原理是在真空低气压下,ICP射频电源产生的射频输出到环形耦合线圈,以一定比例的混合刻蚀气体经耦合
    Release time:2019-11-20   Number of clicks:65

  • 微波等离子去胶机操作规程

    微波等离子去胶机操作规程:  1、自动切割小车应经空车运转,并选定切割速度;  2、使用钍、钨电极应符合JGJ33-2001第12.7.8条规定;  3、高频发生器应设有屏蔽护罩,用高频引弧后,应立即切断高频电路;  4、应检查并确认电源、
    Release time:2019-11-20   Number of clicks:58

  • 反应离子刻蚀机是一款独立式RIE反应离子刻蚀系统

    反应离子刻蚀机是一款独立式RIE反应离子刻蚀系统,配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品。具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"
    Release time:2019-11-18   Number of clicks:46

  • 微波等离子干法去胶机操作及配合人员防护:

      微波等离子干法去胶机操作及配合人员防护:  1、作业后,应切断电源,关闭气源和水源;  2、高空切割时,必须系好安全带,切接切割周围和下方应采取防火措施,并应有专人监护;  3、现场使用的等离子切割机机,应设有防雨、防潮、防晒的机棚,并
    Release time:2019-11-18   Number of clicks:56

  • 什么公司会用到等离子刻蚀机

    从某种程度来讲,等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室。气体被导入并与等离子体进行交换。等离子体在工件表面发生反应,反应的挥发性副产物被真空泵抽走。等
    Release time:2019-10-31   Number of clicks:55

  • 制作太阳能电池中的等离子刻蚀机的工作原理是怎么样的

    太阳能电池发电原理:太阳能电池是一对光有响应并能将光能转换成电力的器件。能产生光伏效应的材料有许多种,如:单晶硅,多晶硅,非晶硅,砷化镓,硒铟铜等。它们的发电原理基本相同,现以晶体为例描述光发电过程。P型晶体硅经过掺杂磷可得N型
    Release time:2019-10-31   Number of clicks:52

  • 刻蚀的具体过程可描述几个步骤?

    当刻蚀气体被通入刻蚀反应腔中,在射频电场的作用下产生等离子体辉光放电,反应气体分解成各种中性的化学活性基团,分子、电子、离子;由于电子和离子的质量不同使得质量较轻的电子能够响应射频电场的变化而离子却不能,正是这种差异在电极上产生负偏压Vd
    Release time:2019-10-28   Number of clicks:44

  • 赛森电子科技是做什么的?

    苏州赛森电子科技有限公司成立于2014年,是一家为国内半导体,MEMS及光电产业客户提供再制造设备,零配件及服务的公司。我们的核心产品线包括NovellusC1/C2PECVD,LamRainbow/TCP系列刻蚀机以及AMATP5
    Release time:2019-10-28   Number of clicks:55

  • RIE-PE刻蚀机技术性的特点以及一些资料分析

    在众多半导体工艺中,刻蚀是决定特征尺寸的核心工艺技术之一。刻蚀分为湿法刻蚀和干法刻蚀。湿法刻蚀采用化学腐蚀进行,是传统的刻蚀工艺。它具有各向同性的缺点,即在刻蚀过程中不但有所需要的纵向刻蚀,也有不需要的横向刻蚀,因而精度差,线宽一般在3um
    Release time:2019-10-18   Number of clicks:55

  • 等离子刻蚀机通常有几种形式?

    等离子刻蚀机通常有三种形式:等离子体刻蚀、离子轰击和两种形式的结合反应离子刻蚀(ReactiveIonEtching),下表给出三种刻蚀的特点对照。离子轰击顾名思义是利用高能量惰性气体离子轰击硅片表面,达到溅射刻蚀的作用。因为采用这种方
    Release time:2019-10-18   Number of clicks:47

  • 等离子蚀刻机(干刻)与等离子清洗机是一件事吗

    等离子刻蚀机主要采用射频等离子源(也有采用微波离子源)激发反应气体产生等气体离子对目标物进行物理轰击,以达到去除指定物质手段。因为反应力度要求较大,所以等离子刻蚀机基本是采用RF射频等离子发生方式。同理,如果控制等离子源功率和其他相关参数可
    Release time:2019-10-15   Number of clicks:22

  • 全自动磁控溅射系统技术分类

    全自动磁控溅射系统是物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition,PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,而上世纪70年
    Release time:2019-10-15   Number of clicks:35

  • 反应离子刻蚀机检验操作及判断

    反应离子刻蚀机是一款独立式RIE反应离子刻蚀系统,配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品。具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"
    Release time:2019-10-09   Number of clicks:24

  • 等离子刻蚀机的应用

    等离子体处理可应用于所有的基材,甚至复杂的几何构形都可以进行等离子体活化、等离子体清洗,等离子体镀膜也毫无问题。等离子体处理时的热负荷及机械负荷都很低,因此,低压等离子体也能处理敏感性材料。等离子刻蚀机的典型应用包括:等离子体清除浮渣光阻材
    Release time:2019-10-09   Number of clicks:36

  • 在半导体制造业中,各种不同的工艺的分类

    在半导体制造业中,各种不同的工艺通常分为四大类:沉积、移除、图案结构、改变电气性能。沉积是一种在晶片上生长、覆盖或转移材料的工艺。可用的技术包括物理气相沉积、化学气相沉积、电化学沉积、分子束外延以及最新的原子层沉积。移除是一种去除晶片上材料
    Release time:2019-09-18   Number of clicks:22

  • 如何操作微波等离子去胶机?

    微波等离子去胶机操作规程:  1、自动切割小车应经空车运转,并选定切割速度;  2、使用钍、钨电极应符合JGJ33-2001第12.7.8条规定;  3、高频发生器应设有屏蔽护罩,用高频引弧后,应立即切断高频电路;  4、应检查并确认电源、
    Release time:2019-09-18   Number of clicks:60

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