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Industry news
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中国等离子体刻蚀机达到世界先进水平
日前，央视财经频道播出的《感受中国制造》第五集《中国“芯”力量》介绍了中国在半导体设备和半导体原材料上取得的成绩和进步。其中，最引人瞩目的莫过于中国企业在刻蚀机上取得的成绩——16nm刻蚀机实现商业化量产并在客户的生产线上运行，7-10nmRelease time：2019-11-26 Number of clicks：80 -
2018中国半导体材料及设备产业发展大会举行
导语：2018中国半导体材料及设备产业发展大会日前在北京举行。大会由中国电子信息产业发展研究院主办、邳州市政府协办，旨在通过梳理半导体产业的发展方向、推介半导体材料及设备产业的创新理念，共同促进半导体Release time：2019-11-22 Number of clicks：71 -
什么公司会用到等离子刻蚀机
从某种程度来讲，等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室。气体被导入并与等离子体进行交换。等离子体在工件表面发生反应，反应的挥发性副产物被真空泵抽走。等Release time：2019-10-31 Number of clicks：74 -
制作太阳能电池中的等离子刻蚀机的工作原理是怎么样的
太阳能电池发电原理：太阳能电池是一对光有响应并能将光能转换成电力的器件。能产生光伏效应的材料有许多种，如：单晶硅，多晶硅，非晶硅，砷化镓，硒铟铜等。它们的发电原理基本相同，现以晶体为例描述光发电过程。P型晶体硅经过掺杂磷可得N型Release time：2019-10-31 Number of clicks：61 -
RIE-PE刻蚀机技术性的特点以及一些资料分析
在众多半导体工艺中，刻蚀是决定特征尺寸的核心工艺技术之一。刻蚀分为湿法刻蚀和干法刻蚀。湿法刻蚀采用化学腐蚀进行，是传统的刻蚀工艺。它具有各向同性的缺点，即在刻蚀过程中不但有所需要的纵向刻蚀，也有不需要的横向刻蚀，因而精度差，线宽一般在3umRelease time：2019-10-18 Number of clicks：134 -
在半导体制造业中，各种不同的工艺的分类
在半导体制造业中，各种不同的工艺通常分为四大类：沉积、移除、图案结构、改变电气性能。沉积是一种在晶片上生长、覆盖或转移材料的工艺。可用的技术包括物理气相沉积、化学气相沉积、电化学沉积、分子束外延以及最新的原子层沉积。移除是一种去除晶片上材料Release time：2019-09-18 Number of clicks：116 -
论半导体设备（一）---国内半导体设备来源及状况
美国对华技术出口管制以及成立"瓦森纳安排"，对中国的发展具有深层次的影响，即大大阻碍了中国加入全球生产体系。由于《瓦森纳协定》的影响，中国采购新半导体设备的难度颇高，目前国内部份半导体设备干法去胶机的采购均来自二手设备市Release time：2019-09-03 Number of clicks：65 -
What are the typical applications of plasma etchers?
Theplasmatreatmentcanbeappliedtoallsubstrates,andevencomplexgeometriescanbeusedforplasmaactivationandRelease time：2018-02-01 Number of clicks：77 -
What are the main applications of plasma degumming machine?
Drydegummingmachinetechnologyisaveryimportantprocessinmicro-processingexperiments.AfterelectronbeamlithogRelease time：2018-01-04 Number of clicks：55 -
Principle and application of dry Resist Asher.
AtmosphericplasmaprocessorsreduceproductioncostsandproductpricesTheplasmaprocessingmachineisthesurfaceofRelease time：2018-01-02 Number of clicks：106 -
Principle of plasma etcher and matters needing attention
Theworkingprincipleofplanaretchingistoetchbetweentwoplanarelectrodes.ItisdifferentfromcommoninductivelRelease time：2018-01-02 Number of clicks：127 -
What is the working principle of magnetron sputtering?
TheworkingprincipleofmagnetronsputteringisthatelectronscollidewithargonatomsduringtheflyingtothesubstrRelease time：2018-01-02 Number of clicks：85