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Industry news

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  • 中国等离子体刻蚀机达到世界先进水平

    日前,央视财经频道播出的《感受中国制造》第五集《中国“芯”力量》介绍了中国在半导体设备和半导体原材料上取得的成绩和进步。其中,最引人瞩目的莫过于中国企业在刻蚀机上取得的成绩——16nm刻蚀机实现商业化量产并在客户的生产线上运行,7-10nm
    Release time:2019-11-26   Number of clicks:48

  • 2018中国半导体材料及设备产业发展大会举行

    导语:2018中国半导体材料及设备产业发展大会日前在北京举行。大会由中国电子信息产业发展研究院主办、邳州市政府协办,旨在通过梳理半导体产业的发展方向、推介半导体材料及设备产业的创新理念,共同促进半导体
    Release time:2019-11-22   Number of clicks:48

  • 什么公司会用到等离子刻蚀机

    从某种程度来讲,等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室。气体被导入并与等离子体进行交换。等离子体在工件表面发生反应,反应的挥发性副产物被真空泵抽走。等
    Release time:2019-10-31   Number of clicks:58

  • 制作太阳能电池中的等离子刻蚀机的工作原理是怎么样的

    太阳能电池发电原理:太阳能电池是一对光有响应并能将光能转换成电力的器件。能产生光伏效应的材料有许多种,如:单晶硅,多晶硅,非晶硅,砷化镓,硒铟铜等。它们的发电原理基本相同,现以晶体为例描述光发电过程。P型晶体硅经过掺杂磷可得N型
    Release time:2019-10-31   Number of clicks:54

  • RIE-PE刻蚀机技术性的特点以及一些资料分析

    在众多半导体工艺中,刻蚀是决定特征尺寸的核心工艺技术之一。刻蚀分为湿法刻蚀和干法刻蚀。湿法刻蚀采用化学腐蚀进行,是传统的刻蚀工艺。它具有各向同性的缺点,即在刻蚀过程中不但有所需要的纵向刻蚀,也有不需要的横向刻蚀,因而精度差,线宽一般在3um
    Release time:2019-10-18   Number of clicks:60

  • 在半导体制造业中,各种不同的工艺的分类

    在半导体制造业中,各种不同的工艺通常分为四大类:沉积、移除、图案结构、改变电气性能。沉积是一种在晶片上生长、覆盖或转移材料的工艺。可用的技术包括物理气相沉积、化学气相沉积、电化学沉积、分子束外延以及最新的原子层沉积。移除是一种去除晶片上材料
    Release time:2019-09-18   Number of clicks:22

  • 论半导体设备(一)---国内半导体设备来源及状况

    美国对华技术出口管制以及成立"瓦森纳安排",对中国的发展具有深层次的影响,即大大阻碍了中国加入全球生产体系。由于《瓦森纳协定》的影响,中国采购新半导体设备的难度颇高,目前国内部份半导体设备干法去胶机的采购均来自二手设备市
    Release time:2019-09-03   Number of clicks:54

  • What are the typical applications of plasma etchers?

    Theplasmatreatmentcanbeappliedtoallsubstrates,andevencomplexgeometriescanbeusedforplasmaactivationand
    Release time:2018-02-01   Number of clicks:67

  • What are the main applications of plasma degumming machine?

    Drydegummingmachinetechnologyisaveryimportantprocessinmicro-processingexperiments.Afterelectronbeamlithog
    Release time:2018-01-04   Number of clicks:53

  • Principle and application of dry Resist Asher.

    AtmosphericplasmaprocessorsreduceproductioncostsandproductpricesTheplasmaprocessingmachineisthesurfaceof
    Release time:2018-01-02   Number of clicks:46

  • Principle of plasma etcher and matters needing attention

    Theworkingprincipleofplanaretchingistoetchbetweentwoplanarelectrodes.Itisdifferentfromcommoninductivel
    Release time:2018-01-02   Number of clicks:56

  • What is the working principle of magnetron sputtering?

    Theworkingprincipleofmagnetronsputteringisthatelectronscollidewithargonatomsduringtheflyingtothesubstr
    Release time:2018-01-02   Number of clicks:62